Pooljuhtide väljal kasutatud tantaalitorud

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. tarnib kvaliteetseid haruldasi metalle, sealhulgas peamiselt Niobium Hafnium Alloy 103, volfram, tantaal, niobium, hafnium, titaanium, titaanium, tsirkoonium, nikkel, vanadium- ja punnid, nii sellised, mis pakuvad. Nagu sügavad töödeldud tooted, nagu laevad, tiiglid, pritsivad sihtmärgid, katte sihtmärgid, töödeldud osad, kõrge temperatuuriga ahjude isolatsiooniekraanid, kütteelemendid, ahjukehad (kütteahjud, lõõmuvad ahjud), korrosioonikindlad seadmed jne.

Tantalumi tootja, tarnija ja eksportijana pakume kõrge puhtusega, kõrge temperatuuriga vastupidavat, korrosioonikindlat, kosmose-, kaitse-, sõjaväe- ja meretehnika spetsialiseeritud tooteid, millel on murevaba kvaliteet ja soodsamad hinnad! Klienditeenindus on alati võrgus, nii et teil pole muret.
 

Omadused ja omadused

 

Kõrge sulamistemperatuur ja hea juhtivus

Tantalumi sulamistemperatuur on kuni 2996 kraadi C, mis võimaldab sellel töötada kõrgel temperatuuril keskkonnas. Tantalumil on suurepärane juhtivus ja see sobib erinevate kõrgete temperatuuridega juhtivate rakenduste jaoks pooljuhtide tootmisel.

Keemiline stabiilsus ja madal aurustumiskiirus

Tantalumil on kõrge keemilise stabiilsus kõrgetel temperatuuridel ja see ei reageeri enamiku gaaside ja vedelike puhul kergesti, muutes selle söövitava keskkonna jaoks sobivaks. Tantaalmil on kõrge temperatuuriga äärmiselt madal aurustumiskiirus ja see sobib kasutamiseks vaakumis või madalrõhukeskkonnas.

Suur puhtus ja mehaaniline tugevus

Pooljuhtide tootmine nõuab äärmiselt suurt materjali puhtust ja tantaalitorud on tavaliselt kõrgelt puhastatud, et vältida pooljuhtseadmete jõudlust mõjutavaid lisandeid. Tantalumil on kõrge mehaaniline tugevus ja ta talub kõrgel temperatuuril mehaanilist pinget.

Pooljuhtide kiipi tootmisel saavad tantaalitorud pärast täpset töötlemist pritsivate sihtmärkide põhipinnaks. Dongfang tantalum-tööstuse toodetud suure suurusega tantaal-sihtmärgi tühimik 5N5 klassi (puhtus 99,9995%) on rakendatud vase omavahel ühendatud barjääri kihi ladestumisel 7NM protsessis, mille terade suurus on kontrollitud 20 μm piires, saavutades kile paksuse rahvusvahelise juhtiva taseme ± 3%. Tüüpiline juhtum näitab, et seda tüüpi sihtmaterjali kasutav kodumaine 12 -tolline vahvlikäpp suurendas kiibi saagis 12%ja sihtmaterjali kasutusaega pikendati 2,3 -kordsele traditsiooniliste titaani sihtmärkidele. See jõudluse eelis tuleneb tantalumi ainulaadsest kristallstruktuurist - selle kehakeskne kuupvõre võib vaseaatomi difusiooni tõhusalt pärssida ja vältida vooluringi lühiseid.

Kokkupandavates telefonides kasutatav 0,15 mm tantaalkondensaator nõuab 100000 paindetesti talumiseks selle sisemist plii toru. Baoji Yixintai välja töötatud ultrafine tantaaltoru (läbimõõt 0,8 mm, seina paksus 0,05 mm) on külma veereva elektrolüütilise poleerimisprotsessi all, vähendades pinna karedust RA0,1 μm -ni ja vähendades ESR -i (samaväärset seeriakisti) kondensaatori (samaväärne seeria takistus) allpool. Huawei P70 seeria tegelike testiandmete kohaselt parandab see tehnoloogia kiiret laadimise efektiivsust 18% ja mahutavuse languse määr on kõrge temperatuuriga keskkonnas vähem kui 2% tuhande kohta 85 kraadi

Tantaami (4,25 eV) elektrooniline tööfunktsioon on oluliselt kõrgem kui vase (4,0 eV) ja titaani (4,1 eV) omavahel ning PVD -protsessi käigus saab toota tihedamat õhukest kilestruktuuri. Eksperimentaalsed andmed näitavad, et tantalum-tõkkekihi lekkevoolutihedus on 1-2 suurusjärku madalam kui titaannitriidi oma, mis on 3D-NAND mälu vaheliste vaheliste isolatsiooni jaoks ülioluline. Pooljuhtide klassi ülemaailmne nõudlus on umbes 800 tonni, kuid ökonoomselt kasutatav tantaalik ore saab ainult 60%.

Pooljuhtide protsessisõlmede läbimurde korral ulatub tantaalitorude rakendamine traditsioonilistest tõkkekihi materjalidest tipptasemel väljadele, näiteks kolmemõõtmeline integreeritud termiline haldamine ja kvantseadme substraadid. Tehnilisel tasandil on nanopoorsete tantaalitorude arendamine (poorsus 70% -90%) sisenenud pilootstaadiumisse, konkreetse pindalaga 200–300m ²/g, mis võib oluliselt parandada aatomikihi sadestumise (ALD) protsessi eelkäija kasutamise määra. Turuprognoosid näitavad, et pooljuhtide tantaalitorude ülemaailmne nõudlus laieneb aastatel 2025–2030 ühe liit kasvutempoga 11,8%, heterogeenne integreeritud pakend moodustab üle 40%.

Väärib märkimist, et USA energeetikaministeeriumi (DOE) avaldatud uusim peamine mineraalide nimekiri on nimetanud Tantalumi kui "äärmiselt olulist materjali" ja selle strateegiline väärtus on ümberkujundamine globaalse tarneahela maastiku ümber. Hiina saavutab 2027. aastaks eeldatavasti 70% kodumaise asendamise määra Yichun tantalumi maagi ressursside ja läbimurdete integreerimise kaudu 6N taseme puhastustehnoloogiasse.

Kuum tags: Pooljuhtide valdkonnas kasutatavad tantaalitorud, Hiina tantaalitorud, mida kasutatakse pooljuhtide põllutootjate, tarnijate, tehase juures