Hafniumi osakesed keemiliste seadmete jaoks
Keemilistes seadmetes kasutatavad hafniumiosakesed on graanulitud materjalid, mis on valmistatud kõrgest - puhtuse metallist hafnium (tavaliselt suurem või võrdne 99,9%) kaudu selliste protsesside kaudu nagu hüdrogeenimise dehüdrogeenimine (HDH) või plasma pihustamine (PA). Selle põhiväärtus seisneb suurepärases korrosioonikindluses, kõrge puhtuse omaduste ja kõrge - temperatuuri stabiilsuses, muutes selle võtmematerjaliks ekstreemsete keemiliste keskkondadega, nagu tugevad happed ja kõrge temperatuur.
Kirjeldus
Keemilistes seadmetes kasutatavatel hafniumiosakestel peavad olema suurepärane korrosioonikindlus ja äärmiselt kõrge puhtus. Sellel peab olema suurepärane resistentsus tugevate hapete, näiteks lämmastikhappe, vesinikkloriidhappe, väävelhappe ja kõrge - temperatuuriauru suhtes, mille aastane korrosioonisagedus on alla 0,01 millimeetri. Samal ajal selliste lisandite nagu raua-, nikli- ja kloriidioonide sisaldus (üksikud<50ppm) must be strictly controlled to avoid catalytic poisoning or reaction medium pollution, ensuring the purity and continuity of the chemical process.
Teiseks peavad osakestel olema stabiilne kõrge - temperatuuri jõudlus ja kohandatav füüsiline morfoloogia. See suudab säilitada struktuurilise stabiilsuse happelises keskkonnas, milles on 300–600 kraadi C, ilma graanulitevahelise korrosiooni kalduvuseta, ja kohaneda erinevate protsessidega, nagu termiline pihustamine ja paagutamine kontrollitava osakeste suuruse kaudu (1-150 μm), morfoloogiat (morfoloogiat (ebaregulaarseid või sfäärilisi) ja osakeste suuruse, töötlemis- ja funktsionaalsete vajaduste täitmise, nii mitmesuguste rakenduste stsenaariumide kohta.
Põhiprotsess
Tootmisprotsess on täpne protsess, mis integreerib kõrge - puhtuse metallurgia, pulbri ettevalmistamise ja postituse - töötlemise, eesmärgiga hankida hafniumi osakeste saadusi suurepärase korrosioonikindluse ning kontrollitava koostise ja morfoloogiaga.
1, kõrge - valmistamine puhtus hafnium tooraine
Hafniumi tsirkooniumi eraldamine ja puhastamine:
Kasutades ekstraheerimise eraldamise tehnikaid (näiteks MIBK tiotsüanaatsüsteem), eraldatakse kõrged - puhtuse hafniumühendid (näiteks HFCL ₄) tsirkooniumi hafnium Co esinevatest maakidest.
Redutseerimine Sulamine:
Krolli protsessi või elektronkiire sulamise (EBM) abil vähendatakse hafniumiühendid ja sulatatakse valuplokkideks, kontrollides ranget lisandite, näiteks hapniku (O (O<600 ppm) and nitrogen (N<100 ppm) to ensure substrate purity of ≥ 99.9%.
2, pulbri moodustamisprotsess
Hüdrogeenimise dehüdrogeenimise (HDH) meetod (tavaprotsess):
Hüdrogeenimine: vesiniku omastamise indutseerimiseks töötlege vesiniku atmosfääris neodüümi valuplokk temperatuuril 500–800 kraadi.
Purustamine ja jahvatamine: mehaaniline purustamine sihtosakeste suuruse vahemikus kaitseasutuses.
Dehüdrogeenimine: dehüdrogeenimine viiakse läbi kõrge vaakumis 800-1000 kraadi juures, et saada ebakorrapärase kujuga hafniumosakesed, millel on kõrge spetsiifiline pindala.
Plasmaaatomiseerimise (PA) meetod (kõrge - jõudluse nõue):
Sulatage kõrge - puhtuse hafnium -elektroodivardad vedelateks tilkadeks läbi plasmakaare inertses atmosfääris.
Tilgad jahutavad lennu ajal väga sfäärilisteks osakesteks, hea voolavuse ja madala hapnikusisaldusega, kuid kõrgemate kuludega.
3, järeltöötlus ja liigitamine
Sõelumine ja liigitamine:
Kasutades vibratsiooni sõeluuringu ja õhuvoolu klassifitseerimise tehnoloogiat, klassifitseeritakse pulber täpselt nõutavate osakeste suuruse vahemikku (näiteks 1-45 μm, 45-150 μm).
Pinnatöötlus
Happepesu: kasutage segahapet (näiteks HF - hno ∝), et puhastada pinnaoksiide ja saasteaineid.
Passiivsusravi: moodustage tiheda oksiidi kile, et veelgi suurendada korrosioonikindlust.
Jõudluse testimine:
Kompositsiooni analüüs: GDMS tuvastab puhtuse ja lisandite sisalduse.
Jõudlus: läbiviige korrosioonitestid (näiteks leotamine 70% lämmastikhappes), osakeste suuruse jaotuse ja voolavuse testid.
4, pakendid ja salvestusruum
Pakendamist tuleks teha inertses atmosfääris (näiteks argoon) või vaakumkeskkonnas, et vältida transpordi ja ladustamise ajal oksüdeerumist ja niiskuse imendumist.
Teabe sildiga nagu osakeste suurus, puhtus, partii arv jne, et tagada jälitatavus ja ohutu kasutamine.
Keemilistes seadmetes kasutatavad hafniumosakesed on lahendanud tugeva happe, kõrge temperatuuri ja kõrge - puhtuskeskkonna materiaalse korrosiooni ja reostuse probleemid kõrge - puhtuse kontrolli, morfoloogia kujundamise ja pinna optimeerimise kaudu. Selle rakendamine laiendab märkimisväärselt keemiaseadmete kasutusaega, parandab protsessi stabiilsust ja toote puhtust ning on hädavajalik strateegiline materjal kõrge - lõppkeemiaseadme jaoks.
Kuum tags: Hafniumi osakesed keemiliste seadmete jaoks, Hiina hafniumosakesed keemiaseadmete tootjate jaoks, tarnijad, tehas
Küsi pakkumist
Ju gjithashtu mund të pëlqeni
